應用領域：

電廠、水泥廠、空分、化工流程、磁性材料等高溫燒結爐保護性氣體、電子行業(yè)保護性氣體以及玻璃、建材行業(yè)、高壓氧艙的氧含量在線檢測分析。

技術參數(shù)：

• 測量原理：可定制（根據(jù)現(xiàn)場工況及量程定制）

• 測量范圍：微量氧、常量氧、高純氧（量程需根據(jù)客戶現(xiàn)場確定）

• 精 度：≤±1％F.S

• 重 復 性：≤±1％F.S

• 穩(wěn)定性：≤±1％F.S

• 響應時間：T90≤15秒

• 工作環(huán)境：溫度：－25℃～＋45℃；濕度：≤90%RH（無結露）

• 樣氣壓力：0.05 MPa≤入口壓力≤0.1MPa（出氣口必須為常壓）

• 樣氣流量：400±10mL/ min。

• 工作電源： 220VAC±10%；50Hz±5%（一般便攜式自帶可充電電池）

分析原理：

電化學原理：電化學式氣體分析儀是一種化學類氣體分析儀表。它根據(jù)化學反應所引起的離子量的變化或者電流變化來測量氣體成分。為了提高選擇性，防止測量電極表面沾污和保持電解液性能，一般采用隔膜結構。常用的電化學式分析儀有定位電解式和伽伐尼電池式。

順磁氧分析儀原理：順磁式氧分析儀，也可叫做磁效應式氧分析儀、或磁式氧分析儀，我們通常通稱為磁氧分析儀。它一般分為磁機械式、磁壓力式和氧熱磁對流式分析儀三種該類型。順磁性氧分析儀利用氧分子具有順磁性，被測氣體引至內置磁場，氧分子在磁場內順應磁場運動，在懸掛的啞鈴球上產生推力，通過測量啞鈴球的偏移而得出被測氣體中的氧含量。

激光氧分析儀原理：激光吸收光譜技術的簡稱。DLAS技術本質上是一種光譜吸收技術，通過分析激光被氣體的選擇性吸收來獲得氣體的濃度。它與傳統(tǒng)紅外光譜吸收技術的不同之處在于，半導體激光光譜寬度遠小于氣體吸收譜線的展寬。因此，DLAS技術是一種高分辨率的光譜吸收技術，半導體激光穿過被測氣體的光強衰減可用朗伯-比爾（Lambert-Beer）定律表述式得出，關系式表明氣體濃度越高，對光的衰減也越大。因此，可通過測量氣體對激光的衰減來測量氣體的濃度。

氧化鋯原理：氧化鋯分析儀測量含氧量的基本原理是利用所謂的“氧濃差電勢”，即在一塊氧化鋯兩側分別附以多孔的鉑電極（又稱鉑黑）并使其處于高溫下。如果兩側氣體中含氧量不同，那么在兩電極間就會出現(xiàn)電動勢。這種電動勢是由于固體電解質兩側氣體含氧濃度不同而產生的，所以叫氧濃差電勢，而氧濃差電勢大小可以通過能斯特公式計算出來。